GCR형

고효율・에너지 절약 촉매식 배출가스 처리 장치

촉매식 배출가스 처리 장치

에너지 절약

PFCs 가스 고효율 처리

연료 불필요

낮은 유지보수 비용

GCR형은 반도체 산화막 에칭 공정 등에서 사용되는 CF4 등의 PFCs 가스를 낮은 가공 비용으로 고효율 분해 제거 가능한 촉매식 배출가스 처리 장치입니다.

기기명	단위	GCR120*	GCR250
처리 방식		촉매식+습식	촉매식+습식
최대 유입 가스 허용량	L/min	120	250
반응조 교환 검지		PFC 검지기	PFC 검지기
치수	W x D x H mm	1,200×600×1,800mm	1,400×700×1,850mm
처리 가능 가스		CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6, C5F8, C4F6, NF3, HF, F2, SiF4, CO, COF2, N2O 등	CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6, C5F8, C4F6, NF3, HF, F2, SiF4, CO, COF2, N2O 등
*판매 수량 제품

배수 처리 불필요, PFCs 가스의 고효율 안전 처리, 건식 배출가스 처리 장치

저NOx 및 풍부한 반응 부생성물 대책으로 유지보수 비용 절감, 연소식 배출가스 처리 장치