반도체 제조
다양한 반도체 제조 과정에서 활약
프로세스의 상세 내용
컴퓨터, 스마트폰, 가전제품, 차량, 의료기기 등 반도체 기술은 우리의 일상생활에 빼놓을 수 없는 다양한 장치에 사용되고 있습니다. 반도체 제조에는 에칭, 세정, 성막, 이온 주입, 평탄화 처리 등 막대한 공정이 필요한데, 이러한 제조 공정에는 성능, 신뢰성, 안전성, 환경 부담 등 다양한 면에서 엄격한 조건을 충족하는 최첨단 제조 장치와 컴포넌트 기기가 사용되고 있습니다. 업계 최첨단인 에바라의 기술력이 날로 미세화・고효율화되어 가는 반도체 제조 현장을 지원합니다.
공정에서의 활용 예
드라이 진공 펌프: CVD, Etcher, Ion 주입 등 반도체 제조의 전공정 및 후공정에 사용되는 진공계 프로세스 장치
배출가스 처리 장치: 반도체 제조 공정에서 발생하는 유해 가스의 처리
오존수 제조 장치: 웨이퍼 세정, 레지스트 제거
CMP 장비: 평탄화 처리
