
F-REX型
通过高运转率和高处理量,实现高效生产
干进干出
工艺性能出色
高处理量
高运转率
满足多级药液清洗要求
研磨加工终点检测监控仪(选配)
在线膜厚检测仪(选配)
多样化功能与灵活的装置结构组成
满足SEMI-2/CE要求
产品介绍
F-REX型是对晶圆表面进行化学机械研磨的洁净室安装型CMP装置。工艺性能的高度可靠性和出色性能得到了市场的证明,能够按照要求规格,做到多种多样且又灵活自由的装置结构组成。
采用双模块式,工艺腔室间不会发生交叉污染。即使一个模块停止运行,也可自动切换为另一模块运行,在维护或者发生故障时,无需停止设备运行,生产效率非常高。凭借双模块方式,一台设备能进行多项工艺处理。除了量产以外,还可提供试验研发用途的优化装置结构组成。