G5형
가연성 가스 및 지구 온난화 가스(PFCs 가스)를 고효율 처리, 연소식 배출가스 처리 장치
연소식 배출가스 처리 장치
여러 가스를 일괄 처리
PFCs 가스를 고효율 처리
부생성물 대책・파우더 자동 배출 기능
낮은 러닝 코스트
높은 업타임
가스 종류・양에 따른 On-deman 운전
유지보수성 향상
CE 마크/SEMI-S2/NRTL 대응 가능
제품소개
G5형은 제조 공정에서 사용되는 다양한 가스를 고효율로 처리할 수 있는 연소식 배출가스 처리 장치입니다. 여러 가스를 일괄 처리할 수 있어 통상적으로 처리가 어려운 PFCs 가스도 고효율로 처리할 수 있습니다. 독자적인 부생성물 대책과 처리 대상 가스의 종류・양에 따른 On-demand(연료 공급량 변동 가능) 운전으로 러닝 코스트를 절감할 수 있습니다. 반도체・액정 패널・태양전지・LED 등의 전자 부품 제조, 화학・재료 제조사, 각종 연구실 등에서의 사용에 최적합합니다. 최대 유량 1,200L/min의 대유량 타입도 라인업되어 있습니다.
명세서
| 기기명 | 단위 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 처리 방식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | |
| 최대 유입 가스 허용량 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 연료 | 도시가스/프로판가스 선택 | 도시가스/프로판가스 선택 | 도시가스/프로판가스 선택 | 도시가스/프로판가스 선택 | |
| 치수 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 처리 가능 가스 예 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등 | |
| 표준 장비품 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | |
| 옵션 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | |
