G6형
최대 1,200L/min 대유량 연소식 배출가스 처리 장치
연소식 배출가스 처리 장치
대유량 처리 대응
여러 가스를 일괄 처리
PFCs 가스를 고효율 처리
부생성물 대책・파우더 자동 배출 기능
낮은 러닝 코스트
가스 종류・양에 따른 On-deman 운전
유지보수성 향상
제품소개
G6형은 제조 공정에서 사용되는 다양한 가스의 고효율 및 대용량 처리가 가능한 연소식 배출가스 처리 장치입니다. 기존 기종 대비 허용 유입 가스량이 약 3배로 증가했으며 고발열을 수반하는 대유량 수소가스도 처리 가능합니다. 처리 대상 가스의 종류・양에 따른 On-deman(연료 공급량 변동 가능) 운전 기능으로 러닝 코스트를 절감할 수 있으며, 대용량 부생성물 트랩 등의 부생성물 대책을 통해 대유량 가스 처리 시의 유지보수 비용과 부하도 줄일 수 있습니다. 반도체・액정 패널・태양전지・LED 등의 전자 부품 제조, 화학・재료 제조사, 각종 연구실 등에서의 사용에 최적합합니다.
명세서
| 기기명 | 단위 | G6 A1~A4 | G6 P1~P4 |
| 처리 방식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | |
| 최대 유입 가스 허용량 | L/min | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
| 연료 | 도시가스 | 프로판가스 | |
| 치수 | W x D x H mm | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
| 처리 가능 가스 예 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6, H2 , PH3, Si3H8 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6, H2 , PH3, Si3H8 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 | |
| 표준 장비품 | 대유량 NF3 처리 버너 | 대유량 NF3 처리 버너 | |
