G6-E형
수소가스・염소가스의 대유량 동시 처리 가능, 연소식 배출가스 처리 장치
연소식 배출가스 처리 장치
대유량 염소가스・수소가스 대응
여러 가스를 일괄 처리
PFCs 가스를 고효율 처리
부생성물 대책・파우더 자동 배출 기능
낮은 러닝 코스트
On-deman 운전
유지보수성 향상
제품소개
G6-E형은 반도체 제조 공정에서 Epitaxial 성장 장치 등에 사용되는 대유량 수소 및 염소가 포함된 배출가스 처리에 적합한 연소식 배출가스 처리 장치입니다. 콤팩트 설계로 최대 200L/min의 수소를 처리할 수 있으며 수소가스・염소가스의 동시 처리도 대응 가능합니다. 부생성물 제거 기능이 표준 탑재되어 있어 유지보수 비용과 부하를 줄일 수 있습니다.
명세서
| 기기명 | 단위 | G6-E A1~A4 | G6-E P1~P4 |
| 처리 방식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | |
| 최대 유입 가스 허용량 | L/min | 400 | 400 |
| 연료 | 도시가스 | 프로판가스 | |
| 치수 | W x D x H mm | 1,200×650×1,900mm | 1,200×650×1,900mm |
| H₂ 최대 처리 가능 유량 | L/min | 200 | 200 |
| 처리 가능 가스 예 | 프로세스(디포지션)가스 H2, PH3, Si3H8, SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 | 프로세스(디포지션)가스 H2, PH3, Si3H8, SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 | |
| 표준 장비품 | 대유량 H2 처리 버너 | 대유량 H2 처리 버너 | |
| 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | ||
| 옵션 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | |
| 분체 배출 저감용 팬 스크러버 | 분체 배출 저감용 팬 스크러버 | ||
