G6型
最大1,200L/min的大流量燃烧式废气处理装置
燃烧式废气处理装置
满足大流量处理要求
批量处理多种气体
高效处理PFCs气体
副产物处理措施和粉尘自动排放功能
运行成本低
与气体种类和数量相适应的可调式运行
提高维护性能
产品介绍
G6机型是制造工艺中所用可高效、大容量处理各种气体的燃烧式废气处理装置。允许流入气体量约为传统机型的3倍，还能处理伴有高热的大流量氢气。通过能够结合处理对象气体种类和数量进行处理的可调式（燃料供应量可调）运行功能，能够降低运行成本；通过大容量副产物捕集器等副产物处理措施，能够降低大流量气体处理时的维护成本，降低负荷。该装置是半导体、液晶面板、太阳能电池和LED等电子元件制造以及化学材料工厂和各种研究室等用途的最佳选择。
规格
| 设备名称 | 单位 | G6 A1~A4 | G6 P1~P4 |
| 处理方式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | |
| 最大允许流入气体量 | L/min | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
| 燃料 | 城市燃气 | 丙烷气体 | |
| 尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
| 可处理气体例 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 | |
| 标准装备品 | 大流量NF3处理燃烧器 | 大流量NF3处理燃烧器 | |
