TND型
具备低氮氧化物且丰富的反应副产物处理措施，能够降低维护成本的燃烧式废气处理装置
燃烧式废气处理装置
低氮氧化物、低一氧化碳排放
批量处理多种气体
高效处理PFCs气体
副产物处理措施和粉尘自动排放功能
可选择Wet-Burn-Wet模式
维护间隔长
运行成本低
产品介绍
TND型采用独家燃烧方式，属于低氮氧化物、低一氧化碳排放的燃烧式废气处理装置。凭借各种耐腐蚀措施与副产物处理措施，维护间隔达到传统产品的3倍以上，加上公用工程消耗低的低运行成本方式，能够有效降低使用成本。产品阵容包括：TND-Single型（燃烧式+湿式洗涤器）、TND-Single Plus（前置清洗+燃烧式+湿式洗涤器）。在副产物较多的工艺中，也能实现低运行成本和高效处理。
规格
| 设备名称 | 单位 | TND-Single A1-A4/ TND-Single P1~P4 | TND-Single Plus-A1~A4/P1~P4 |
| 处理方式 | 燃烧式 + 湿式 | 湿式 + 燃烧式 + 湿式 | |
| 最大允许流入气体量 | L/min | 200(每个端口） | 200(每个端口） |
| 400(每台装置） | 400(每台装置） | ||
| 燃料 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | |
| 尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,980 | 1,200 x 650 x 1,980 |
| 可处理气体例 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 | 工艺（沉积）气体 WF6、TiCl4、SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | |
| 标准装备品 | 粉体去除用水清洗结构 | 前道粉体捕集结构 | |
| 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | ||
| 选项 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | |
| 粉体排放削减用风机洗涤器 | 粉体排放削减用风机洗涤器 | ||
