製品紹介
F-REX型は、ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置です。市場で証明された高い信頼性と優れたプロセス性能を有し、要求仕様に応じた多様かつ柔軟な装置構成が可能です。プロセスチャンバー間の相互コンタミがないデュアルモジュール方式を採用。一方のモジュールが停止しても自動で他方のモジュールでの運転に変更が可能で、メンテナンスやトラブル時にも装置を停止する必要がなく、高い生産性の実現が可能です。また、デュアルモジュール方式により、一台で複数のプロセス処理が可能。量産だけでなく、実験開発用途にも最適な装置構成を提供しています。
