製品紹介
G5型は製造工程で使用される様々なガスの高効率処理が可能な燃焼式排ガス処理装置です。複数のガスを一括処理でき、通常処理が難しいPFCsガスの高効率処理が可能です。独自の副生成物対策と処理対象ガス種・量に応じたオンデマンド（燃料供給量可変）運転により、ランニングコストの低減を実現します。半導体・液晶パネル・太陽電池・LEDなどの電子部品製造、化学・材料メーカー、各種研究室などでの使用に最適です。最大流量1,200L/minの大流量タイプもラインナップしています。
スペック
| 型式 | 単位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 処理方式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | |
| 最大流入ガス許容量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 都市ガス／プロパンガス選択 | 都市ガス／プロパンガス選択 | 都市ガス／プロパンガス選択 | 都市ガス／プロパンガス選択 | |
| 寸法 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | |
| 標準装備品 | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | |
| オプション | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | |
